自动片式射频等离子清洗机 RPD-5
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自动片式射频等离子清洗机 RPD-5

多轨道自动上下料,RIE模式快速清洗

【设备功能及应用】

主要用于芯片贴装、引线键合、底部胶填充、模塑等半导体封装工艺前的清洗和表面活化,有效去除封装物料表面的有机污染物和氧化物,提高界面粘接和键合性能,大幅优化封装良率。配置高效的引线框架或基板自动上下料系统,该设备具有清洗周期短和均匀性好等特点,尤其适用于对清洗效果要求非常高的批量生产应用。


【产品特点】

• 增强的表面处理效果

• 产品清洗均匀性好和一致性高

• 高产能(5轨道450片/小时)

• 料盒式上下料,片式清洗

• 引线框架自动上下料设计(标准4轨道/最多5轨道)

• 轨道宽度可快速自动调节

• 特有的腔室底部气冷设计

• 工艺过程智能化操作和显示

• 基于工控机的触屏控制系统  


【主要规格】

等离子频率

13.56MHz

等离子功率

标准600W (可选1000W)

电极冷却

气冷,位于腔室底部

轨道数量

标配4轨道(数量可定制,最多5轨道)

轨道宽度

30-60mm(5轨道),30-80mm(4轨道),大于80mm(1-3轨道),可快速自动调节

UPH

450片(5轨道模式)

腔内尺寸

W280mm✕D440mm✕H55mm

质量流量计

标配2个,流量100sccm / MFC

真空规

皮拉尼规或电容薄膜规

真空泵

内置,抽速≥50m3/h

控制系统

Windows触摸屏工控机+PLC控制,支持手动和自动操作,支持工艺程序编辑/存储/运行,支持工艺数据自动记录和显示,支持连接MES系统

外尺寸

W1800mm✕D1080mm✕H1500mm(不含三色灯)

重量

约700kg

电源

AC380V, 3P+N+PE, 50Hz, 4kW


更多详情~请电话咨询: 18300005892(惠)