

【设备功能及应用】
主要用于芯片贴装、引线键合、底部胶填充、模塑等半导体封装工艺前的清洗和表面活化,有效去除封装物料表面的有机污染物和氧化物,提高界面粘接和键合性能,大幅优化封装良率。配置大容量腔室和先进的电极及结构设计,在高效生产的同时保证了良好的清洗均匀性。
【产品特点】
• 无电极损伤,无污染源,长寿命
• 高气压下维持等离子体
• 较高的电离和分解程度
• 微波发生器稳定,易控制
• 等离子羽流长度、等离子覆盖面积时域调整
• 无自偏压,不会对精密电路造成任何损坏
• 等离子体温度低,不会对产品造成连带损伤
【主要规格】
外形尺寸 | 射流头:R73.4xH129.2mm; 控制箱:280x419.5x140mm |
输出功率 | 50~250W |
输出频率 | 2.45GHz |
频率误差 | ±50ppm |
微波泄漏 | <2mW/cm² |
供电电压 | AC220V±10% |
供电频率 | 50Hz±2Hz |
启动模式 | 本地模式/IO模式 |
最大驻波比 | 2:1 |
工作模式 | 连续波CW |
更多详情~请电话咨询: 18300005892(惠)